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產品型號：

VBF-1200X-H8

VBF-1200X-H8 真空管式爐在美國通過CE認證，其水平位置帶有一個外口徑200mm深度340mm的石英內膽，在真空或各種氣氛下溫度可達到1100℃，可對6〞以下的半導體晶片進行煅燒或低溫退火。該爐體表面溫度低、升降溫速率快、節能等優點，比一般的真空箱式爐更潔凈，真空度能達到更高，是高等院校、科研院所的實驗室、工礦企業對金屬、非金屬及其它化合物材料進行燒結、融化、分析而研制的的理想設備。

            我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000環境體系的要求），不會造成環境污染；

          該產品符合含采購商OHSMS18000職業安全健康管理體系標準的要求，不會對接觸產品的人員健康造成傷害！

• 高品質慘鉬鐵鉻鋁合金作為發熱元件，可加熱到1100℃
• 高精度不銹鋼針閥和真空表及真空法蘭可直接使用
• 不銹鋼真空法蘭帶有高溫O型硅膠圈
• 內置30段可編程精密數字溫度控制器精確控制加熱速率，降溫速率和恒溫時間。

²        工作溫度：1000℃（最高連續使用溫度1000℃，極限最高使用溫度1100℃最多30分鐘）

²        加熱元件：高質量的Ni-Cr-Al電阻絲，可加熱到1100℃

²        爐管尺寸：8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L

²        加熱范圍：7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter)

²        控溫方式：智能化30段可編程控制

²        恒溫精度：±2℃

²        工作電源：單相208-240 VAC 50/60HZ

²        外型尺寸：510 x 435 x 425mm

²        凈重：80KG

 產品規格：

外形尺寸：510 x 435 x 425mm

凈重：80KG